Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
décapage ionique à l'installation à deux électrodes — dvielektrodis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. diode ion etching vok. Diodenätzen, n; Ionenstrahlätzen in einer Diodenätzanlage, n rus. двухэлектродное ионное травление, n pranc. décapage ionique à l… … Radioelektronikos terminų žodynas
décapage ionique par plasma — joninis plazminis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion assisted plasma etching vok. Plasmaionenätzen, n rus. плазменное ионное травление, n pranc. décapage ionique par plasma, m … Radioelektronikos terminų žodynas
décapage ionique réactif — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
système de décapage ionique réactif — reaktyvusis joninis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ionic etcher vok. Anlage für reaktives Ionenätzen, f rus. установка реактивного ионного травления, f pranc. système de décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
résistance au décapage ionique réactif — atsparumas reaktyviajam joniniam ėsdinimui statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etch resistance vok. Beständigkeit gegen reaktives Ionenätzen, f rus. стойкость к реактивному ионному травлению, f pranc. résistance au… … Radioelektronikos terminų žodynas
machine de décapage ionique à trois électrodes — triodinis joninis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. triode ion etcher vok. Dreielektrodenätzer, m; Triodenätzer, m rus. трёхэлектродная установка ионного травления, f pranc. machine de décapage ionique à trois… … Radioelektronikos terminų žodynas
chambre pour décapage ionique — joninio ėsdinimo kamera statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etching chamber vok. Ionenätzkammer, f rus. камера для ионного травления, f pranc. chambre pour décapage ionique, f … Radioelektronikos terminų žodynas
réacteur de décapage ionique — joninis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion etch reactor vok. Ionenätzreaktor, m rus. реактор для ионного травления, m; установка ионного травления, f pranc. réacteur de décapage ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
machine à décapage ionique en magnétron — magnetroninis joninis ėsdintuvas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. magnetron ion etcher vok. Magnetronionenstrahlätzer, m rus. установка ионного травления магнетронного типа, f pranc. machine à décapage ionique en magnétron, f … Radioelektronikos terminų žodynas
décapage par faisceau ionique — jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ion beam etching; ion beam milling vok. Ionenstrahlätzen, n rus. ионно лучевое травление, n; ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
